废气处理设备使用应注意什么
1.所有使用人员在使用本机前,必须先接受操作培训。处理设备运行交付后,使用单位应派专人保管使用,定期检查,
2.在检修前,郑州废气处理设备,切记先将电源插头拔出或切断电源。
3.为避免意外,停机时必须将电源插头拔出或切断电源;
4.所有检修工作需有合格电工或技术人员进行。
5.在任何情况下,都应将机器存放在干爽室内,避免雨淋,清洁本机时应使用干布。
6.连接电源之插头需有地线,而插座亦需有保险掣。
7.为避免电线损伤,切勿将重物辗过或用力拉扯。
8.拔出或插入电源插头前需先将本机开关关闭。
9.机器类的设备定期维护都是必不可少的,定期维护设备是否有螺丝松脱,材料是否不够或者需要换,有些废气处理设备会产生二次污染,要定期处理二次污染物体,如果发生的故障不能自行解决可以寻求帮助。
半导体废气处理设备
废气介绍:由于半导体工艺对操作室清洁度要求较高,通常使用风机抽取工艺过程中挥发的各类废气,因此半导体行业废气排放具有排气量大、排放浓度小的特点。废气排放也以挥发为主。这些废气主要可以分为四类:酸性废气、碱性废气、**废气和有毒废气。
废气危害:半导体制造工艺中产生的废气如果没有经过很好的处理进行排放,将造成严重的问题,粉尘废气处理设备,不仅影响人们的身体健康,恶化大气环境,造成环境污染的公害事件等,也会成为半导体制造中AMC污染的重要来源。
废气处理设备处理方法:依据这些废气的特性,在处理上采用水洗、氧化/燃烧、吸附、解离、冷凝等方法,针对不同污染物,可采取以下综合处理方法:1.一般排气系统 2.酸性、碱性废气处理系统 3.**废气处理系统。
低温等离子技术
电场激发出的电子、自由基、激发态分子(主要是O3等)等活性物质,是低温等离子体技术净化**废气的关键。VOCs组分解离的难易程度,一方面取决于电子的能量,另一方面还取决于分子中化学键的键能。电子在放电过程中获得的能量主要集中在2~12eV之间,而VOCs分子分解所需要能量刚好均在这个区域内。
目前,产生低温等离子体的常用方法是电晕放电和介质阻挡放电。
电晕放电,是在大气压或**大气压条件下,使用电极表面曲率半径很小的电极,如针状电极或细线状电极,由于放电空间电场不均匀,使电离过程主要局限于局部电场很高的电极附近,特别是发生在曲率半径很小的电极附近或薄层中,并伴随明显光亮的放电现象,一般都发生在高电压(大于5kv)和较高频率(20~40kHz)条件下。
介质阻挡放电,是绝缘介质覆盖在电极上或者悬挂在放电空间中的一种气体放电。当在电极上施加足够高的交流电压,电极之间的气体发生电离,而电极间的介质能起到储能作用,废气净化处理设备,限制放电电流的自由增长,进而产生大量细丝状、较短的脉冲微放电,均匀稳定地充满整个放电间隙,同时能抑制级间火花或弧光的产生。
采用介质阻挡放电方式的等离子体反应器,一般都采用陶瓷、石英等防腐蚀介质材料,电极与废气不直接接触,从而可以一定程度避免设备腐蚀问题。而电晕放电技术(或针尖放电式)通常是气体与电极直接接触的,即使通过的气体没有腐蚀性,但等离子体中的活性强氧化物质(如臭氧)也可能腐蚀电极。相对而言,生物废气处理设备,采用介质阻挡放电方式比电晕放电方式(如针尖放电)更安全。
值得注意的是,低温等离子体技术主要是将**分子中的化学键打断,但尚未能完全将**物矿化成CO2和H2O。以某治理项目为例,非甲烷总烃的去除率仅为45%,而恶臭的去除率可达93%。这主要是因为非甲烷总烃经过处理后,大分子变成小分子,用色谱法检测依然表现为非甲烷总烃;而分解过程中产生的部分异味副产物(如臭氧等)亦会对恶臭的去除率有一定影响。
因此,正经的低温等离子体技术供应商,通常还会在等离子反应器前配置预处理系统,有效去除废气中的粉尘和水分,并且也会在反应器后再配置后处理系统,延长废气与活性物质的反应时间,同时对多余的活性物质(主要是臭氧)进行分解消除。